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PCBAとは何か、その具体的な開発経緯とは

PCBAは英語のPrinted Circuit Board Assemblyの略で、空のPCBボードがSMT上部、またはPCBAと呼ばれるDIPプラグインのプロセス全体を通過します。これは中国で一般的に使用されている方法ですが、欧米ではPCB' Aに「'」を付けるのが標準的な方法であり、これを正式な慣用句と呼びます。

PCBA

プリント基板、プリント基板とも呼ばれるプリント基板は、英語の略語 PCB (Printed circuit board) がよく使用され、重要な電子部品、電子部品のサポート、および電子部品の回路接続の提供者です。電子印刷技術を使用して製造されるため、「プリント」回路基板と呼ばれます。プリント回路基板が登場する前は、電子部品間の相互接続は完全な回路を形成するためのワイヤの直接接続に依存していました。現在、回路パネルは効果的な実験ツールとしてのみ存在し、プリント回路基板はエレクトロニクス業界において絶対的な支配的な地位を占めています。20世紀初頭、電子機械の製造を簡素化し、電子部品間の配線を減らし、製造コストを下げるために、配線を印刷に置き換える方法が研究され始めました。過去 30 年間、技術者は配線用の絶縁基板上に金属導体を追加することを提案し続けてきました。最も成功したのは 1925 年で、米国の Charles Ducas が絶縁基板上に回路パターンを印刷し、電気めっきによって配線用の導体を確立することに成功しました。

1936 年まで、オーストリア人の Paul Iceler (ポール・アイスラー) はイギリスでフォイルフィルム技術を発表しました。彼は無線装置にプリント基板を使用しました。ブロー及び配線方法の特許出願に成功(特許第119384号)。2 つの方法のうち、Paul Iceler の方法が今日のプリント基板に最も似ています。この方法はサブトラクション法と呼ばれ、不要な金属を除去します。一方、シャルル・デュカスと宮本喜之助の方法は、必要な金属のみを添加するというものです。配線はアディティブ方式と呼ばれます。それでも当時の電子部品は発熱が大きく、両者の基板を併用することが難しく、正式な実用化には至らなかったが、プリント回路技術を一歩前進させた。

歴史
1941 年、米国は近接ヒューズを製造するための配線用にタルクに銅ペーストを塗布しました。
1943 年、アメリカ人はこの技術を軍用無線機に広く使用しました。
1947 年にエポキシ樹脂が製造基板として使用され始めました。同時に、NBSではプリント回路技術によるコイル、コンデンサ、抵抗器などの製造技術の研究にも着手しました。
1948 年に、米国はこの発明の商業利用を正式に認めました。
1950 年代以降、発熱の少ないトランジスタが真空管に大きく取って代わり、プリント基板技術は広く使用され始めたばかりです。当時はエッチング箔技術が主流でした。
1950 年、日本ではガラス基板上の配線に銀塗料が使用されました。フェノール樹脂からなる紙フェノール基板(CCL)上の配線用銅箔。
1951年にはポリイミドの登場により樹脂の耐熱性がさらに向上し、ポリイミド基板も製造されました。
1953年、モトローラは両面メッキスルーホール方式を開発しました。この手法は後の多層回路基板にも応用されています。
1960 年代、プリント基板が広く使用されてから 10 年が経過し、その技術はますます成熟しました。モトローラ社の両面基板が出てから多層プリント基板が登場し、基板面積に対する配線の割合が増加しました。

1960 年、V. Dahlgreen は、回路を印刷した金属箔フィルムを熱可塑性プラスチックに貼り付けることにより、フレキシブル プリント基板を作成しました。
1961 年、米国の Hazeltine Corporation は、多層基板を製造するための電気めっきスルーホール法について言及しました。
1967年には層構築法の一つである「メッキアップ技術」が発表されました。
FD-R は 1969 年にポリイミドを使用したフレキシブル プリント基板を製造しました。
パクテル社は1979年にレイヤー追加法の一つである「パクテル法」を発表しました。
NTTは1984年に薄膜回路の「銅ポリイミド方式」を開発した。
1988 年に、シーメンスはマイクロワイヤリング基板ビルドアップ プリント基板を開発しました。
1990 年、IBM は「表面積層回路」(Surface Laminar Circuit、SLC) ビルドアップ プリント基板を開発しました。
1995年、松下電器はALIVH社のビルドアッププリント基板を開発しました。
1996年、東芝はB2itのビルドアッププリント基板を開発しました。


投稿日時: 2023 年 2 月 24 日